全球領(lǐng)先的電子制造業(yè)精密清洗產(chǎn)品、清洗技術(shù)支持及培訓(xùn)方案提供商ZESTRON參加了2015年IPC全國巡回研討會上海站的演講，在2015年7月17日于上海財(cái)大豪生大酒店舉辦的IPC全國巡回研討會上海站上，ZESTRON資深工藝工程師吳明先生發(fā)表了以“創(chuàng)新型聲學(xué)檢測技術(shù)，實(shí)現(xiàn)清洗液濃度精確監(jiān)控”為題的技術(shù)演講。

電子制造業(yè)在對高精密器件進(jìn)行清洗時(shí)通常需要檢測清洗液的濃度來確保工藝的持續(xù)穩(wěn)定性。為了實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)，業(yè)界通常對幾個(gè)關(guān)鍵參數(shù)（如pH值、折光率、電導(dǎo)率等）進(jìn)行檢測，值得注意的是由于清洗液中污染物殘留的存在，傳統(tǒng)的檢測方法存在著一定的局限性，吳明先生的演講介紹了一種創(chuàng)新型聲學(xué)檢測技術(shù)，能夠有效避免清洗液中污染物殘留對測試造成的影響，始終提供精確的濃度測定結(jié)果。

如果您對清洗工藝及濃度監(jiān)控相關(guān)的主題感興趣，歡迎您參加IPC后續(xù)的研討會活動，我們期待著在深圳、天津、青島和杭州與您相遇，您也可以通過infoChina@zestron.com與我們?nèi)〉寐?lián)系，我們的工藝工程師樂于為您解決您日常工作中的清洗難題。