一、 清洗劑的重新定義
標準定義“清洗劑”是“在工業生產和服務活動中，利用化學溶解、絡合、乳化、潤濕、滲透、分散、增溶、剝離等原理，去除裝置、設備、設施、產品表面的污垢（包括油脂、涂料、油墨、膠質、積碳、粉塵等）而使用的液體化學品或制劑”。
解讀：清洗劑原材料來源廣泛，可用作清洗劑的化學品種類繁多，且存在實際是清洗劑但未按清洗劑命名的情況。如：一些企業直接購買一氟二氯乙烷用于清洗工作。雖然該類化學品未標注為“清洗劑”，但由于其實際使用用途與標準的定義一致，也必須按照“清洗劑”進行強制性要求。與此同時，考慮到可用作清洗劑的化學品或制劑可能還有其它用途，如“乙醇”即可用作清洗劑，也可用于生產制造醋酸、飲料、香精、染料、燃料等。因此并沒有因為“乙醇”可用作清洗劑而將所有含“乙醇”的產品都按“清洗劑”進行強制要求。

二、 清洗劑的分類
結合行業調研，標準將清洗劑分為水基清洗劑、半水基清洗劑、有機溶劑清洗劑。
解讀：水基清洗劑中水的含量一般在60%以上，有機溶劑的含量一般在10%以下；半水基清洗劑有的水含量可能高達90%，而有的產品中只有20%～30%；有機溶劑清洗劑一般是以一種或兩種以上有機溶劑為基礎溶劑配制的清洗劑，可能含有少量的水。但由于某些有機溶劑和水有良好的互溶性，水的含量有時也可能高達4%～6%。那么，很難根據清洗劑中水和有機溶劑的含量，比較清晰的將清洗劑進行一個非常明確的劃分。因此標準按照清洗劑原材料組分給出了產品的分類。具體執行時，由清洗劑生產廠家根據配方組成按照實驗檢測數據進行分類標注。

三、 適用范圍的劃分
標準適用于工業生產和服務活動中生產、使用的含揮發性有機化合物的清洗劑，不適用于航空航天、核工業、軍工、半導體（含集成電路）制造用清洗劑。
解讀：由于當前航空航天、核工業、軍工生產等特種行業仍是國家優先扶持發展的重點領域。同時，為應對“缺芯少屏”，半導體（含集成電路）制造暫時也不宜受此標準的限制。但不是“半導體（含集成電路）”生產企業使用的所有清洗劑均不受限。其中非“半導體（含集成電路）制造”用途（如擦洗設備、清洗其它零部件等等用途）的清洗劑需滿足標準要求。如果清洗劑使用用途劃分不明確或存在使用用途存在交叉的，其使用的場所或領域只要屬于國民經濟分類中的“工業生產和服務”，就受約于標準。

四、 對企業、行業和客戶的影響
標準參照國內外相關法規和標準，按照三類清洗劑產品，分四項“揮發性有機化合物（VOCs）含量限值”、“二氯甲烷、三氯甲烷、三氯乙烯、四氯乙烯總和”、“甲醛”、“苯、甲苯、二甲苯和乙苯總和”對清洗劑產品提出了限值要求，同時特給出了低揮發性清洗劑的含量限值。從源頭進行揮發性有機化合物的控制， 并規定按本標準檢驗合格的清洗劑產品應在包裝標志上明示清洗劑所屬產品類別。
解讀：標準頒布后，許多清洗劑的生產制造及應用企業不得不進行技術創新，采用新技術、新工藝開發和研究更低VOCs含量的清洗劑。可能使部分企業的生產經營出現困難，可能造成某些清洗劑產品的價格上漲，也可能出現某些工業產品清洗效果不佳的情況。但是對行業而言，有利于促進工業清洗技術水平的提升，推動行業健康發展。客戶是最大的受益者。通過標示完整、清晰、準確的包裝，客戶可以更快識別清洗劑產品所屬類別、知曉正確使用清洗劑產品的方式、在安全生產和人身健康上得到更大保障。

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