ZESTRON在2014 SMTA華東高科技會議上發表“濃度監控及閉環系統的優勢”專題演講
全球領先的電子制造業精密清洗產品、工藝解決方案及培訓提供商ZESTRON非常榮幸地宣布ZESTRON中國區高級工藝工程師紀建光先生在2014年4月23日于上海世博展覽館召開的 SMTA 華東高科技會議上成功發表了題為“濃度監控及閉環系統的優勢”專題演講。
通常業內使用手動或自動的折光率測試設備來判斷水基清洗液的濃度。但是,隨著清洗過程的不斷深入,大量的助焊劑殘留污染物逐漸在清洗液中積累,折光率測試儀的讀數也就隨之受到影響,最終反饋出錯誤的工藝控制措施,造成工藝不穩定。
本次發表的演講聚焦于一種能夠有效提升濃度監控質量的新技術,這種技術在精確測定水基清洗液的濃度時不會受到助焊劑殘留沉積的影響。演講中提供了大量對比性的數據以證實新技術與傳統測試方法相比展現出的諸多優勢。
如需了解與該課題相關的更多資料,歡迎您通過info@zestronchina.com與我們的工藝工程師團隊取得聯系,您也可以訪問我們的網站www.zestron.com獲得更多訊息。

本次發表的演講聚焦于一種能夠有效提升濃度監控質量的新技術,這種技術在精確測定水基清洗液的濃度時不會受到助焊劑殘留沉積的影響。演講中提供了大量對比性的數據以證實新技術與傳統測試方法相比展現出的諸多優勢。
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