全球領先的電子制造業精密清洗產品、技術支持及專業培訓提供商ZESTRON將出席2016年8月31日與 NEPCON深圳展同期召開的2016 SMTA華南高科技會議，來自ZESTRON中國區的資深工藝工程師田劍先生將發表以“ 低間隙清洗中的流體力學研究”為題的技術演講。近年來業界發表了許多關于低引腳間距元器件底部清洗工藝的論文，遺憾的是大多研究所包含的信息都不完整。因此ZESTRON認為對于當前行業所面臨的挑戰需要進行重新分析和更精確的描述，以找到我們手頭所掌握信息中的缺漏之處。這些缺漏的信息對潛在客戶和現有客戶來說都非常重要，我們需要為不同引腳間距的元器件定義不同的潔凈度等級、并為它們找到恰當的清洗工藝。另外，隨著無鉛焊接工藝的普及，元器件底部的間隙進一步縮小，如何清洗引腳間距小于1-Mil的器件等應用給業界帶來了新的挑戰。
田劍先生將會在他的演講中提供詳細的實驗數據以體現流體力學、溫度和溶液濃度對清洗工藝的影響。
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