據(jù) TheElec，SK Hynix 計劃在第 6 代（1c 工藝，約 10nm）DRAM 的生產(chǎn)中使用 Inpria 下一代金屬氧化物光刻膠（MOR），這是 MOR 首次應用于 DRAM 量產(chǎn)工藝。


消息人士稱，SK Hynix 量產(chǎn)的 1c DRAM 上有五個極紫外 (EUV) 層，其中一層將使用 MOR 繪制。他還補充說，“不僅 SK 海力士，三星電子也將追求這類無機 PR 材料。”

查詢公開資料獲悉，Inpria 是日本化學公司 JSR 的子公司，也是無機光刻膠領域的領導者；而 MOR 則被認為是目前用于先進芯片光刻的化學放大光刻膠（CAR）的下一代產(chǎn)品。

此外，該公司自 2022 年以來就一直與 SK Hynix 合作進行 MOR 研究。SK Hynix 此前曾表示，使用 Sn（基）氧化物光刻膠將有助于提高下一代 DRAM 的性能并降低成本。

TheElec 報道還指出，三星電子也在考慮將 MOR 應用于 1c DRAM，目前三星電子在 1c DRAM 上應用了 6 至 7 個 EUV 層，而美光則只應用了 1 層。