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ZESTRON誠邀您參加 — “功率模塊清洗工藝”免費在線公開課

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2013-10-10  來源:SMT之家商務通  作者:Zestron  瀏覽次數(shù):1054
核心提示:本次題為“功率模塊清洗工藝”的在線公開課程由ZESTRON cademy部門舉辦,主講人為ZESTRON歐洲區(qū)首席工程師Stefan Strixner,Stenfan將會帶來45分鐘的英文講座,其中包含了15分鐘的問答環(huán)節(jié)。
全球領先的電子制造業(yè)精密清洗產品、清洗工藝解決方案及專業(yè)技術培訓提供商ZESTRON非常榮幸地宣布本年度四場在線公開課程中的最后一場講座將于北京時間10月16日下午3:00開始,本次題為“功率模塊清洗工藝”的在線公開課程由ZESTRON @cademy部門舉辦,主講人為ZESTRON歐洲區(qū)首席工程師Stefan Strixner,Stenfan將會帶來45分鐘的英文講座,其中包含了15分鐘的問答環(huán)節(jié)。

授課內容
對于半導體去助焊劑清洗工藝來說,一套合適的工藝需要能夠高效地去除助焊劑殘留,同時也必須滿足防氧化的要求并對銅、鎳鋁等敏感金屬的表面進行恰當?shù)乇Wo。本次在線公開課將會為聽眾概述半導體清洗的不同要求并指導聽眾如何選擇一套合適的清洗工藝,另外將介紹專為半導體清洗應用而設計的現(xiàn)代水基清洗工藝技術能夠為我們的工作帶來的諸多裨益。

授課對象
本次在線公開課程的授課范圍面向電子制造行業(yè)一線操作人員、制程和質控經(jīng)理以及生產工藝工程師等。

如需獲得與ZESTRON在線公開課的更多內容,請通過info@zestronchina.com與我們取得聯(lián)系。
 
 
 
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