全球領(lǐng)先的電子制造業(yè)精密清洗產(chǎn)品、清洗技術(shù)支持及培訓(xùn)方案提供商ZESTRON很榮幸地宣布：ZESTRON中國(guó)區(qū)高級(jí)工藝工程師紀(jì)建光先生將在2014年8月22日于沈陽(yáng)華人國(guó)際大酒店舉辦的IPC全國(guó)巡回研討會(huì)沈陽(yáng)站上發(fā)表以“清洗技術(shù)概覽”為題的技術(shù)演講。

隨著時(shí)代的發(fā)展，行業(yè)越來(lái)越關(guān)注清工藝，希望通過(guò)優(yōu)化工藝來(lái)獲得更好的產(chǎn)品可靠性以及更經(jīng)濟(jì)節(jié)約的成本方案。本次研究將會(huì)展示主流清洗工藝的概覽，為聽眾解釋不同物理激勵(lì)方式的原理，更會(huì)解釋ZESTRON清洗劑中所包含的核心技術(shù)：MPC® （微相清洗技術(shù)）和FAST® （快效表面活性劑技術(shù)）。這些創(chuàng)新型的解決方案專門設(shè)計(jì)用于徹底去除有機(jī)和無(wú)機(jī)的污染物殘留物，如助焊劑、錫膏及SMT膠水殘留等。

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