全球領(lǐng)先的電子制造業(yè)精密清洗產(chǎn)品、清洗工藝解決方案及專(zhuān)業(yè)技術(shù)培訓(xùn)提供商ZESTRON非常榮幸地宣布我們將出席2017 NEPCON越南展。展會(huì)將于2017年9月13日至15日在河內(nèi)國(guó)際展覽中心舉行，ZESTRON真誠(chéng)歡迎您前往K08a展臺(tái)進(jìn)行參觀和咨詢(xún)。

此次ZESTRON將展出已經(jīng)在業(yè)界廣泛部署的全球首款自動(dòng)化高精度濃度測(cè)試控制儀ZESTRON EYE和專(zhuān)為浸沒(méi)式清洗工藝設(shè)計(jì)的單相水基型清洗劑HYDRON® SE 230A。展會(huì)現(xiàn)場(chǎng)，您可以了解到這些產(chǎn)品的詳細(xì)信息，面對(duì)面地與我們專(zhuān)業(yè)的工藝工程師進(jìn)行交流，并將有機(jī)會(huì)贏取精品禮品。

ZESTRON® EYE采用了獨(dú)特創(chuàng)新型感應(yīng)方法3P技術(shù)，由感應(yīng)器和控制器兩部分組成。ZESTRON® EYE專(zhuān)為ZESTRON清洗劑設(shè)計(jì)，能夠精確實(shí)現(xiàn)對(duì)電子清洗工藝中清洗液濃度的實(shí)時(shí)測(cè)定，且不會(huì)受到清洗液中助焊劑殘留載荷量的影響。

HYDRON® SE 230A是一種單相水基型清洗劑。能夠有效去除多種半導(dǎo)體電子器件芯片焊接后的助焊劑殘留物，包括引線框架、分立器件、功率模塊、功率LED、倒裝芯片和CMOS，且能夠保證有效去除銅表面的氧化層。